報道稱ASML或向中國市場推出特別版光刻機

7月6日消息（顏翊）據報道，ASML試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，計劃面向中國市場推出特別版深紫外光刻（DUV）光刻機。

該工具將符合最新的美國出口規(guī)定，可以在沒有許可證的情況下運給中國客戶。這款設備將使中芯國際（SMIC）和華虹等公司能夠在28納米級及以上制程上制造芯片。

該特別版光刻機是基于Twinscan NXT:1980Di改造，目前這是臺積電仍在投入生產的最低級別的型號，該機器具備1.35數(shù)值孔徑光學系統(tǒng)，分辨率小于38納米，理論上支持7納米級及更先進的節(jié)點。事實上，這臺光刻機最初于2016年發(fā)布，曾被臺積電用于開發(fā)其7納米級工藝技術。

報道稱，ASML可以對該設備進行改造，提高其最低支持的分辨率，以防止中芯國際和其他中國芯片制造商制造低于28納米的工藝技術?？紤]到中芯國際絕大部分收入來自28納米及以上的生產節(jié)點，中國公司很可能仍然對采購這類工具感興趣。

根據最新的出口法規(guī)，美國公司和個人必須獲取許可證才能出口能夠制造14納米/16納米及以下制程的非平面晶體管結構的邏輯芯片、128層及以上的3D NAND以及半間距18納米以下的DRAM存儲芯片的工具和技術。對于從美國出口組件的非美國公司，同樣適用這些規(guī)定，ASML和Twinscan NXT:1980Di也受到限制。

根據最新的荷蘭出口規(guī)定，ASML需要獲取出口許可證才能向中國公司銷售Twinscan NXT:2000i光刻機。ASML尚未正式推出Twinscan NXT的特別版本，但如果出口規(guī)定繼續(xù)限制向中國銷售先進技術，此舉似乎是可能的。

生成海報

免責聲明：本網站內容主要來自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網站將盡力確保所提供信息的準確性及可靠性，但不保證有關資料的準確性及可靠性，讀者在使用前請進一步核實，并對任何自主決定的行為負責。本網站對有關資料所引致的錯誤、不確或遺漏，概不負任何法律責任。任何單位或個人認為本網站中的網頁或鏈接內容可能涉嫌侵犯其知識產權或存在不實內容時，應及時向本網站提出書面權利通知或不實情況說明，并提供身份證明、權屬證明及詳細侵權或不實情況證明。本網站在收到上述法律文件后，將會依法盡快聯(lián)系相關文章源頭核實，溝通刪除相關內容或斷開相關鏈接。