驅(qū)動中國2023年11月3日消息，近日，三星電子本周向投資者透露，近期將過渡和推進(jìn)光刻技術(shù)，計(jì)劃 2024 年下半年向市場推出采用第二代 3nm 工藝技術(shù)（SF3）以及量產(chǎn)版 4nm 工藝（SF4X）的產(chǎn)品。
三星聲稱，SF3 將提供更大的設(shè)計(jì)多功能性，可以在相同的單元類型中，為不同的全柵極 （GAA） 晶體管提供不同的納米片通道寬度。不過，盡管三星沒有直接比較 SF3 和 SF3E，但三星表示 SF3 比 SF4（4LPP、4nm 級、低功耗）有重大改進(jìn)：包括在相同功率和復(fù)雜性下性能提高 22%，或者在相同頻率和晶體管數(shù)量下功耗降低 34%，以及邏輯面積減少 21%。
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